本装置はフェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。750～900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、紫外～可視領域に吸収を持つ物質の２光子励起が可能です。従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能でナノスケールの光造形ができます。

従来の高出力炭酸ガスレーザーやＹＡＧレーザーを用いた加工は光エネルギーを熱エネルギーとして変換し、照射部位を溶融、分解など熱的に損傷して加工する手法ですが、フェムト秒レーザーによる加工は光エネルギーそのものを用いるため材料が熱的な損傷を受けません。
また、多光子励起による加工のため材料表面を損傷することなく、内部のみを３次元的に加工することができます。
さらに多光子励起過程は非線形光学現象であるため、回折限界を超える加工分解能が得られます。